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產(chǎn)品
產(chǎn)品分類
全部分類
直線式勞埃透鏡鍍制機(jī)
直線式勞埃透鏡鍍制機(jī),是為高能同步輻射光源(HEPS)研發(fā)的高端儀器裝備,用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點(diǎn)是膜層層數(shù)多(數(shù)千層甚至更多)且膜層位置和厚度精度高(總位置平均誤差小于±5nm,每層的厚度誤差小于0.1nm)。為了保證每個(gè)膜層的厚度精度,采用磁控濺射技術(shù)來實(shí)現(xiàn)膜片的制備,其優(yōu)點(diǎn)是,能夠精確控制膜層厚度,重復(fù)性好,薄膜與基片結(jié)合緊密,薄膜純度高、致密性好。
倍增級磁控鍍膜機(jī)
倍增級磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實(shí)現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測試等功能,可進(jìn)行數(shù)字化編程、程序控制和動態(tài)監(jiān)測,能夠?qū)崟r(shí)顯示、記錄、統(tǒng)計(jì)、計(jì)算、保存、輸出各種運(yùn)行數(shù)據(jù),達(dá)到精確控制膜厚和沉積均勻性的要求。
MPO專用遮光膜鍍膜設(shè)備
該設(shè)備為高真空電子束蒸鍍設(shè)備,即利用高能量密度的電子束轟擊被鍍材料,使其氣化并沉積在基片表面;此設(shè)備為在石英或其它材料表面沉積鎳鉻合金或其它單金屬、合金;設(shè)備由立式前開門水冷真空室、真空系統(tǒng)、工裝系統(tǒng)、電子束沉積系統(tǒng)、離子轟擊系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、測量及監(jiān)控系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)(機(jī)架、工藝氣路、壓空氣路、冷卻水路、附件)等組成。
顯示器面板行業(yè)—ITO/金屬電極研發(fā)中試線
該設(shè)備為高真空ITO箱式鍍膜設(shè)備,主要用于沉積AZO、GZO等系列透明導(dǎo)電膜,金屬薄膜,半導(dǎo)體薄膜等,也可用于其他功能性薄膜的沉積。
中高溫集熱管鍍膜生產(chǎn)線
Φ70x4060集熱管鍍膜生產(chǎn)線,產(chǎn)線主體Φ1500x6000水冷真空腔室4段,依次為預(yù)處理室、工藝1室、工藝2室和出樣室;產(chǎn)線配移動式公自轉(zhuǎn)工裝架及工裝架閉環(huán)輸送系統(tǒng),工裝架裝載量20只(Φ70);工裝架閉環(huán)輸送系統(tǒng)由橫移車及直線輸送線組成,在閉環(huán)輸送系統(tǒng)中工裝架自動運(yùn)行。預(yù)處理室、工藝1室?guī)Ъ訜幔訜釡囟?00℃。工藝1室配2只圓柱靶或內(nèi)裝平面靶,接直流電源用于沉積底層金屬,工藝2室配2對孿生靶接中頻電源;沉積AL、Ti、Si等構(gòu)成的多層陶瓷本征吸收層;系統(tǒng)除裝卸件外,均自動運(yùn)行,自動化程度較高,滿足光干涉膜、金屬陶瓷膜等選擇性吸熱膜的批生產(chǎn)需要。
臥式單體中高溫集熱管鍍膜設(shè)備
該設(shè)備為Φ1200x6000水冷真空腔室,配移動式公自轉(zhuǎn)工裝架,工裝架裝載量10-20只,公自轉(zhuǎn)工裝架點(diǎn)對點(diǎn)自動運(yùn)行;設(shè)備帶偏壓清洗及輔助沉積功能,工藝加熱溫度300℃;設(shè)備配5只圓柱靶或內(nèi)裝平面靶;可鍍Au、Ag、AL、Mo、Cu、Ti等多種底層金屬,及由AL、Ti、Si等構(gòu)成的多層陶瓷膜;系統(tǒng)滿足光干涉膜、金屬陶瓷膜等多種選擇性吸熱膜的研制和小批生產(chǎn)。
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