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產(chǎn)品

真空鍍膜系統(tǒng)

多弧+磁控濺射復(fù)合鍍膜機(jī)

該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進(jìn)行反應(yīng)濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

熱蒸發(fā)、磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。

電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對電極可單獨(dú)或同時蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào)；流量計(jì)控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等，用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨(dú)立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室兩個真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜，完成用戶主要鍍膜工藝過程。預(yù)備室通過高真空插板閥與主腔室相連，可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗，并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。

雙腔室多功能磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)；為避免交叉污染，一個腔室可實(shí)現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜，另一腔室可實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜。

多靶位立式磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等）的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

通用磁控濺射鍍膜機(jī)

磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用最廣泛的PVD沉積設(shè)備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實(shí)驗(yàn)室制備光學(xué)膜層，電學(xué)，光電膜層及其它功能膜層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校及相關(guān)科研機(jī)構(gòu)。

SBC-2型多功能試樣表面處理機(jī)

應(yīng)用領(lǐng)域：
透射電鏡、離子探針、掃描電鏡、能譜儀分析等樣品制備，理化分析、科學(xué)研究等。
主要功能：
具備離子噴涂、離子濺射、離子清洗、蒸碳等功能

SBC-12小型離子濺射儀

本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。

直線式勞埃透鏡鍍制機(jī)

直線式勞埃透鏡鍍制機(jī)，是為高能同步輻射光源（HEPS）研發(fā)的高端儀器裝備，用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點(diǎn)是膜層層數(shù)多（數(shù)千層甚至更多）且膜層位置和厚度精度高（總位置平均誤差小于±5nm，每層的厚度誤差小于0.1nm）。為了保證每個膜層的厚度精度，采用磁控濺射技術(shù)來實(shí)現(xiàn)膜片的制備，其優(yōu)點(diǎn)是，能夠精確控制膜層厚度，重復(fù)性好，薄膜與基片結(jié)合緊密，薄膜純度高、致密性好。

倍增級磁控鍍膜機(jī)

倍增級磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實(shí)現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測試等功能，可進(jìn)行數(shù)字化編程、程序控制和動態(tài)監(jiān)測，能夠?qū)崟r顯示、記錄、統(tǒng)計(jì)、計(jì)算、保存、輸出各種運(yùn)行數(shù)據(jù)，達(dá)到精確控制膜厚和沉積均勻性的要求。

MPO專用遮光膜鍍膜設(shè)備

該設(shè)備為高真空電子束蒸鍍設(shè)備，即利用高能量密度的電子束轟擊被鍍材料，使其氣化并沉積在基片表面；此設(shè)備為在石英或其它材料表面沉積鎳鉻合金或其它單金屬、合金；設(shè)備由立式前開門水冷真空室、真空系統(tǒng)、工裝系統(tǒng)、電子束沉積系統(tǒng)、離子轟擊系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、測量及監(jiān)控系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)（機(jī)架、工藝氣路、壓空氣路、冷卻水路、附件）等組成。